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Poids de l’Open access dans la production CNRS

Titre
Effects of deep wet etching in HF/HNO3 and KOH solutions on the laser damage resistance and surface quality of fused silica optics at 351 nm
BSO - Titre
Effects of deep wet etching in HF/HNO_3 and KOH solutions on the laser damage resistance and surface quality of fused silica optics at 351 nm
Identifiant WoS
WOS:000397319500003
Accès ouvert
OA - Oui
Source - Accès ouvert
OA - Non
Type d'accès
Archive
Editeur

The Optical Society

Source

OPTICS EXPRESS

ISSN
1094-4087
Type de document
  • Article
Notoriété
4 - Excellente
CNRS
Oui
CNRS - Institut
  • INC - Institut de chimie
  • INP - Institut de physique
uid:/JN8THQNF
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